Image:Fib tem sample.jpg
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Historique du fichier
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Date et heure | Dimensions | Utilisateur | Commentaire | |
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actuel | 3 février 2007 à 16:36 | 1 024×800 (205 Kio) | EdC | ({{Information |Description=SEM micrograph of a wide-bandgap semiconductor prepared for TEM by focused-ion-beam milling. |Source=English wikipedia |Date=9 March 2006 |Author=english User:Cm the p |Permission= |other_versions= }} [[category:Focused Ion Bea) |
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Métadonnées
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Orientation | Normale |
---|---|
Résolution horizontale | 100 dpi |
Résolution verticale | 100 dpi |
Logiciel utilisé | Adobe Photoshop CS Windows |
Date de modification | 9 mars 2006 à 07:08 |
Espace colorimétrique | 65535 |